CCD(Counter-Current Decantation) 공정은 2개 이상의 침전조 및 부가적인 장비(Mixer Tank 등)를 설치함으로써 아래의 두 가지 주요목적을 달성하기 위한 것 입니다. *[참고] CCD의 목적 및 잔사의 세정방법 고액분리(Solid-Liquid Separation): 잔사(Tailing)와 침출후액(PLS)의 분리 세정(Washing): 잔사를 세정하여 잔사들과 함께 빠져나가는 침출후액의 손실 최소화 침전조 내에서 고액분리가 이루어진 다음 Underflow(U/F)는 펌프를 이용하여, Overflow(O/F)는 수두차를 이용하여 다음 단계로 보내어 집니다. 따라서, CCD 공정 내에서 각 침전조들끼리 구배가 있도록 설치되어야 합니다. I. CCD's Flowsheet and ..

광물의 파·분쇄 혹은 선광공정 이후에 고액분리(Solid-Liquid Separation) 및 고체비율의 상승을 위한 침전조(Thickener)의 목적에 더하여, Counter-Current Decanter(CCD)는 침출공정 이후, 여러 단의 침전조를 놓아 잔사를 세정(Washing)함으로써 잔사들과 함께 빠져나가는 침출후액(PLS)의 손실을 촤소화하기 위한 설비입니다. Overflow(상등액): 금속의 회수를 위한 단계인 용매추출단 혹은 전해채취로 보냄 Underflow(슬러리, 광액): 고체비율이 약 30-40%정도로 형성된 농축슬러리는 중화 후 TSF(Tailing Storage Facility)로 보냄 이 때, 침전(Settling)과 세정(Washing)은 서로 상반된 조건애서 이루어집니다. ..