세정효율은 흔히, CCD의 단수, Wash Ratio와 함께 증가합니다. 따라서, CCD 공정 내 침전조를 많이 설치할 수록, Wash Water를 더 많이 넣을수록 증가하지만 이는 곧 CAPEX와 OPEX의 상승으로 이어집니다. 세정효율(혹은 CCD 공정의 금속회수율)은 아래의 식을 이용하여 계산할 수 있습니다. W.E.: Wash Efficiency Cn: 마지막 CCD U/F 내 특정 용질(Solute)의 농도 Cf: 첫번째 CCD에 유입되는 슬러리(침출후액 등) 내 특정 용질의 농도 식 (1)의 세정효율을 계산하기 위하여 최종 U/F로 빠져나가는 슬러리 내 목적금속 농도를 구하기 위해서는 아래와 같이 반복적이고 시간이 오래 소요되는 계산을 거쳐야 합니다. (각 흐름에 대한 농도 및 유량은 위의 F..

CCD(Counter-Current Decantation) 공정은 2개 이상의 침전조 및 부가적인 장비(Mixer Tank 등)를 설치함으로써 아래의 두 가지 주요목적을 달성하기 위한 것 입니다. *[참고] CCD의 목적 및 잔사의 세정방법 고액분리(Solid-Liquid Separation): 잔사(Tailing)와 침출후액(PLS)의 분리 세정(Washing): 잔사를 세정하여 잔사들과 함께 빠져나가는 침출후액의 손실 최소화 침전조 내에서 고액분리가 이루어진 다음 Underflow(U/F)는 펌프를 이용하여, Overflow(O/F)는 수두차를 이용하여 다음 단계로 보내어 집니다. 따라서, CCD 공정 내에서 각 침전조들끼리 구배가 있도록 설치되어야 합니다. I. CCD's Flowsheet and ..